An das weltweit modernste Zentrum für Lithographie-Optik haben wir acht Krananlagen geliefert. Der Standort der Halbleitertechnik plante bereits 2016 die Fertigungsmöglichkeiten zu erweitern. Vorgesehen war neben der Ausweitung bestehender Produktionsflächen um rund 6.000 Quadratmeter auch eine neue Halle für die nächste Generation von Lithographie-Optiken mit extrem ultraviolettem Licht (EUV). Diese bedurfte noch höherer Fertigungsstandards.
Diesen hohen Anspruch erfüllen wir mit unseren Reinraumkranen.
In der Halbleiterindustrie ist eine geringstmögliche Partikelemission von Bedeutung. In der Projektierung der Krananlagen haben wir daher auf dies große Aufmerksamkeit gelegt. Spezieller beachteten wir den Abrieb an Laufrädern und Antriebswellen so gering wie möglich zu halten, keine Silikone zu verwenden, Oberflächen zu schützen (wir verwenden eine Spezialfarbe, welche vom Fraunhofer Institut getestet wurde), und für einen geringstmöglichen Partikelausstoß an Antriebsmotoren und deren Lüftern zu sorgen. Bauteile und Materialien wurden so gewählt, dass sie im jeweiligen Reinraum eingesetzt werden konnten. Stromzuführungen wurden mit Energieketten in geschlossenen Wannen ausgeführt.
In einer Projektdauer von ca. 6 Monaten mit Montage und Inbetriebnahme bewiesen wir unser Know-How. Die Traglasten der Einschienenbahnen und Einträgerbrückenkrane bewegten sich zwischen 500 kg und 6000 kg. Die Stahlkonstruktionen für den Reinraum, Grauraum und Sauberraum lieferten wir auf Wunsch des Kunden pulverbeschichtet.
